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第830章 芯片进展2 (3/3)

 所有人的心都提了起来,目光聚焦在那位工艺整合负责人身上。

    负责人的表情瞬间变得更加严峻,他甚至下意识地深吸了一口气,才操作电脑。

    投影画面切换到一个更加复杂、数据点更加稀疏且波动剧烈的图表:N+1工艺良率追踪图。

    那如同癫痫患者心跳般的曲线,让所有懂行的人心里都是一沉。

    “姚总、冯总,N+1工艺,我们面临的是一堵技术界的‘叹息之壁’。”他的声音干涩。

    “它的目标是实现比14nm更高的晶体管密度和能效比,这要求我们在晶体管架构、新材料、新集成技术上都取得突破。

    目前,我们在三个核心领域遇到了巨大的、近乎原理性的困难。”

    他逐一指出图表上的几个致命低谷:

本章完

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