第464章 被演了一脸 (5/10)

; 拉一个团队，还是有点怕的。

    毕竟波海造船厂的厂长会不会骂李暮他不清楚，但绝对会跟他拼命。

    “如果您能帮忙的话，那自然是最好的。”胡旭华脸上露出喜色，道。

    ……

    办公室外。

    走廊上。

    就在吴有望和胡旭华聊得热火朝天的时候。

    李暮和黄新华，也走到了实验室附近。

    不过两人都没有进去。

    而是在外面，说起了集成电路的研制情况。

    黄新华道：

    “根据你上次提供的方法，我们现在在光刻胶上取得了不小的进步。”

    “引入交联结构和刚性分子结构这两步，也基本完成。”

    “不过想要建立符合的树脂体系，还需要不少的时间，在双组分树脂和梯度分布设计上，有待进一步提高……”

    他简单地说了说情况。

    当然，除了李暮提供的方法之外。

    他们也不是毫无突破。

    比如通过提高后烘温度，从而促进树脂的较量反应，增强机械强度。

    又比如控制显影条件，减少显影液对树脂的过渡侵蚀，保护结构的完整性等。

    通过调整光刻的工艺条件，也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。

    甚至令李暮有些意外地提出了分层设计的想法。

    “采用多层光刻胶结构，低分子量树脂作为顶层，高分子量或抗刻蚀树脂作为底层。通过物理分层直接隔离性能需求，你觉得可不可行？”黄新华问道。

    李暮笑道：

    “当然可行，不过想要实现，需要克服多个难点。”

    “不同的光刻胶层之间需要具有良好的粘附性，避免层间混合或界面的缺陷的出现。”

    “还有就是工艺兼容性的问题，溶剂侵蚀、热膨胀系统不匹配，都有可能影响成品……”

    他说了一下自己的意见。

    分层设计，也叫多层光刻胶技术。

    不过这种技术，尽管在理论上具有显著优势。

    在实际应用中，却面临诸多技术难点和设备要求。

    除了上述的问题之外。

    还有分辨率与厚度的平衡问题、缺陷控制问题等。

    另外在设备上，也需要专门的机器做支持。

    比如高精度的旋涂机或喷涂设备、高精度的曝光机、高精度的显影机等。

    整体来说。

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