第202章 一份名单 (4/5)

  许青山团队中一位来自东北某顶级工业院校的教授，也带组研发出了“放电等离子体极紫外光刻光源”，能够输出13.5nm波长EUV光，直接填补了国内EUV光源空白。

    除了光源技术上的全面突破之外。

    许青山带着这个超级强大的团队所研发出来的新型光刻技术路线也实现了零美国技术含量的弯道超车。

    其中无掩模直写光刻技术，就是最先把14纳米制程实现的技术。

    是的，你并没有看错，是最先，因为许青山这个仅有40多人的超级团队，同时同步进行着多项技术的开发，以防止各种技术在未来量产的时候受到外方限制。

    除了无掩模直写光刻技术之外，还有基于DUV光刻机，通过多次曝光迭加图形，多多重图案化技术，不仅十分适配14纳米工艺还能够达到极高的工件台精度。

    除了以上的这些之外，其他的各项突破相较起来反而显得没有那么亮眼。

    例如数值孔径的提升，智能控制系统的优化，以及材料方面的突破。

    当然，许青山的这个研究基地并不能完全覆盖芯片制造的所有流程。

    好在国家也为许青山他们提供了更多全面而强有力的支持。

    例如在芯片材料方面，华科院各个物理材料所还有各大高校材料相关方面的国家重点实验室，也都开始领到了各自的课题，集中力量办大事。

    这种时候举国体制的优势就被转化的淋漓尽致。

    而且地方政府也并没有在这种时候拖后腿。

    刘赐归拉来的硅电科技，才刚刚搬来鹭岛没有多久的时间，厂房和技术人员就被许青山征用了。

    在简单地了解了许青山他们在做的事情之后，硅电科技没有任何的怨言暂停下了，目前他们的研究进度和生产线开始全力的帮助许青山的研究基地完成光刻机设备和专利的落实和测试。

    在这种群策群力的局面下。

    华夏官方也终于做好了准备，提前布局保障好各位科学家的安全，选择召开了对外发布会。

    说实在的，许青山并没有去看这场对外发布会的直播。

    他甚至这段时间连新闻联播都没有好好看。

    因为就在他把后续的突破任务安排完之后，离开了研究基地，回到家中，他就收到了由京城大学送来的一个信封。

    信封里并没有别的东西，而是一个名单。

    这份名单里记录着许许多多的名字，有些名字许青山看着十分眼熟。

    他心中稍微有一些猜测，但还没有落实下来，于是拿起电话给周其凤打了过去。

    “喂？老周，你给我寄的这份名单，是什么意思？”

    许青山兴奋之后，声音也有些疲惫。

    他拿着手里的名单反复看了一会儿，没有找到其他的信息。

    “你小子可是很久没有给我打电话了。”

    周其凤在电话那头笑着说道。

    “要是不给

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