第502章 光刻工厂的设想，弯道超车 (5/5)
换源：
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听到沈总管指出这个问题，王东来脸上浮现出一丝笑意。
“领导，您说的确实是一个很重要的问题。”
“关于这一点，我也可以做一个简单的解释。”
“光刻机也存在优点和缺点，它的缺点是光源相干性极差，使用反射镜滤光单镜光源损耗率30％，总损耗98％，ASML使用的反射镜全世界只有蔡司能够生产。”
“第二，光刻机的锡污染以及光路散热工程造成易损件成本增加，高NA升级到600瓦光源功率，使得整机成本增加到四倍。”
“第三，光刻机的生产效率低下，以3400B来说，该EUV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到DUV光刻机生产效率的一半，毫无疑问，该光刻机的生产效率不高，将直接导致芯片的生产成本居高不下。”
“最后，便是光刻机的耗电量大，TJD的所有EUV光刻机开工用电量将会占用半个三峡电站的发电量。”
“至于光刻机的好处我就不提了，我再说说光刻工厂的优缺点。”
“缺点有一点很重要的，那就是波荡器、扭摆器、尾场激光器三大件，不能产生瞬间磁场的弯铁必须淘汰，还没有这样的装置进行验证。”
“如果说光刻机是机床的话，光刻工厂就是一个车间，把光刻机尽量放大，用一台周长100到150米的环形加速器来作为光源，然后带动数台甚至是数十台光刻机进行工作。”
“我们在追赶荷兰的光刻机时，如果只想着因循守旧，走人家的老路，很难在短时间内完成超越。”
“我们必须要另辟蹊径，开发出新的技术路线。”
“光刻工厂，就是我想到的最好办法！”
听完王东来的话，沈总管陷入了沉默之中，久久没有言语。
本章完