第四百八十六章 智云两地上市和EUV光刻机量产 (7/8)

0A机型的完善版本，经过长达一年时间的各种测试以及技术升级，我们先后发现并解决了一百多种技术问题，覆盖机台，曝光系统等各领域，并且提升了工作效率！”

    “目前的我们这款HEUV-300B光刻机，分辨率是十三纳米，数值孔径是三点三，套刻精度是二纳米，每小时可加工一百二十片的硅晶圆。”

    “根据我们的情报来源，大概和ASML的正在研发的EUV光刻机性能相当！”

    “实际上，我们还在对机台方面进行重大的技术升级，有望把加工速度提升到每小时两百片，不过目前该技术突破还处于实验阶段，为了稳妥起见我们并没有用在这一代的量产型号上，而是准备用在后续推出第二代量产型号上！”

    这个时候，智云微电子的CEO丁成军也出来道：“我们是打算用这款HEUV-300B光刻机，前期用以等效七纳米工艺的生产，而用了这款光科技拟后，我们的等效七纳米工艺的制造成本将会大幅度下降！”

    “之前我们使用DUV浸润式光刻机强行生产等效七纳米工艺的芯片，在制造成本上还是非常高的，目前来说只有一些顶级芯片才能承担这个成本！”

    “高昂的成本，这也是我们之前规划DUV浸润式光刻机生产等效七纳米工艺的产能，只规划了七万片的缘故。”

    “而我们目前规划的七纳米工艺总产能，前期是要达到十五万片的，而这些后续新增的产能，将会使用EUV光刻机来生产，此外后续也将会进一步扩大EUV光刻机的七纳米工艺产能，最终达到十五万片的规模！”

    “而第二十五厂的七纳米工艺产能，将会用于转产等效十纳米工艺，十二纳米工艺的芯片，毕竟使用DUV浸润式光刻机，采用四重曝光工艺生产七纳米工艺芯片，成本太贵了。”

    “没有EUV光刻机的时候，我们只能咬着牙使用，现在既然有了EUV光刻机，我们后续自然也就没有必要强行使用DUV浸润式光刻机生产七纳米工艺的芯片了，这将会带来极大的成本降低！”

    “同时也会增加我们的十纳米工艺以及十二纳米工艺的成熟产能，满足各类成熟芯片的市场需求！”

    “我们目前也在推广十纳米工艺以及十二纳米工艺技术，尤其是十二纳米工艺技术，这个工艺成熟，市场大，未来大有可为！”

    “而更重要的是，后续使用HEUV-300B光刻机生产等效七纳米工艺的芯片，那么这个成本就能够大幅度下降，能够让普通芯片也用上这一工艺，比如各类中低端智能设备的芯片，这将会极大的扩充我们在七纳米工艺的营收占比！

    “考虑到S系列SOC，W系列SOC，电脑CPU芯片以及消费级GPU芯片，还有人工智能领域所需的AI系列显卡，APO系列显卡，EYQ芯片，EYEQ芯片，PX芯片，ZY算力芯片对七纳米工艺的强烈需求。”

    “我们估计，在逻辑芯片业务里，七纳米工艺的先进工艺代工营收将会从今年的百分之十五，在明年开始提升到百分之二十五，后年提升到百分之四十以上！”

    “七纳米以及更先进的未来五纳米工艺，将会成为我们智云微电子的主要营收来源！”

    “同时我们还能够使用这款光刻机，用于我们的内存芯片制造领域，我们的内存领域的10C工艺已经完成了前期理论准备阶段，现在就等着EUV光刻机了！”

    “10C工艺的应用，也能够帮助我们的内存芯片争夺更多的市场份额！”

    徐申学看着眼前的HEUV-300B光刻机，听着身边高管的介绍，不由得的露出笑容：“未来可期啊！”

    “好好加油，

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