第三百零九章 28纳米自主可控 (5/6)

元的市值再一次震惊世人的时候，智云旗下的智云微电子旗下，首条采用国产光刻机以及多种核心设备的28纳米工艺产线也正式投产，开始量产28纳米工艺芯片。
　　这意味着，国内的28纳米工艺开始自主可控，不需要担心外人卡脖子了。
　　同样也意味着海湾科技的HDUV-400型光刻机已经成熟，尤其是套刻精度上大有进步。
　　对于光刻机而言，最关键的参数有两个，一个是光源波长，比如DUV干式光刻机，则是193纳米的波长，而DUV浸润式光刻机，同样的光源下经过水的折射，可以把光源波长缩小到134纳米。
　　然后另外一个关键参数就是套刻精度，套刻精度有很多个说法，一般在量产工艺里使用的是MMO，也就是不同设备之间的套刻精度。
　　这个数据直接关系到大规模量产情况下的最小制程，良率等一系列关系性能，通常来说，只有满足五点五纳米的套刻精度，才能够实现28纳米工艺的大规模量产。
　　不然的话，勉强使用良率会非常低，成本高昂，不具备商业使用价值。
　　至于更进一步的18纳米以及十四纳米，甚至十纳米工艺这些，这就需要使用双重曝光技术，这对套刻精度要求更高，要求能够达到三点五纳米的套刻精度……
　　这也是为什么说十八纳米工艺节点有些尴尬的原因，因为用来生产十八纳米的光刻机，它也能用来生产十四纳米。
　　同样的设备，我为啥不生产十四纳米工艺的芯片？
　　但是再往下的七纳米，这就需要使用四重曝光，这对套刻精度提出了更进一步的要求，常规来说需要达到二点五纳米的套刻精度，如此才能够让良率稳定在一定的水准。
　　如果套刻精度不足的光刻机，强行采用四重曝光生产七纳米芯片，良率会非常低，成本非常高昂，除非特殊情况，不然没人这么干的。
　　而海湾科技目前的目标，就是进一步缩小套刻精度，争取做到二点五纳米的水准，然后满足七纳米的生产需求。
　　不过这也挺难的，这可是实打实的物理极限的提升，每一纳米的套刻精度提升都是无比艰难的。
　　当然，二点五纳米套刻精度的光刻机，现在海湾科技还搞不出来，甚至三点五纳米套刻精度的光刻机，现在也磕磕绊绊，还得继续琢磨，估计下半年才能小批量供货测试，大规模量产使用，那都得明年去了。
　　但是，现在的五点五纳米套刻精度的HDUV-400光刻机，却是已经成熟可用了……智云微电子那边都用这款光刻机，大规模投产二十八纳米工艺的芯片了。
　　如果是用来生产三十二纳米工艺，四十纳米工艺或四十五纳米工艺这些更成熟的工艺，那就更不用说了，小菜一碟！
　　甚至都可以来上一句性能过剩。
　　智云微电子那边，开始使用HDUV-400光刻机进行投产，这个消息，让业内不少关注国产光刻机的其他芯片厂商看了大为动心。
　　他们也想要这种便宜好货，来大幅度降低先进工艺的资金投入啊。
　　海湾科技的光刻机，虽然整体性能差了点，比不过ASML的光刻机，但是人家卖的便宜啊，不仅仅售价便宜，后续的维护费用也便宜。
　　这就让很多资金不是很充裕的晶圆厂很动心！
　　反正他们也没什么野心搞更先进的双重曝光，玩什么十八纳米，十四纳米工艺，他们就想玩个四十五纳米工艺，撑死了再搞个二十八纳米工艺。
　　这个海湾科技的HDUV-400光刻机，已经很充分了。
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　　不久后，中芯方面也随后正式宣布，他们采购的首台量产型HDUV400光刻机已经进入产线，并投入四十纳米工艺储存芯片的生产。
　　同时他们还准备利用这一款光刻机，来筹建第二条28纳米工艺产线。
　　国内的其他芯片制造厂商看了，就更加坐不住了……国内半导体领域里的老大和老二都已经开始用了，我们也要用啊！
　　于是纷纷找到了海湾科技，希望他们加速供货。
　　对此，海湾科技方面是欢喜无比的同时也苦不堪言……这HDUV-400光刻机的订单太多，而他们的产能也是有限的，短时间里根本无法提供这么多的光刻机。
　　但是有太多人找上门来，还各种找关系说人情，把海湾科技方面的人给弄的都怕了。
　　光刻机这东西，又不是大白菜，海湾科技也只是个负责系统整合的组装厂商而已，很多时候都不是他们想要提升产能就能提升产能的，得后头一大串的供应商都提升产能才行。
　　比如核心的镜片。
　　别看只是镜片，但是它却是一台光刻机里的核心零部件，而这种超高精度的镜片的加工极其困难，复杂，南方光学里加工这种超高精度的镜片的产能是极为有限的。
　　这些镜片，都是由业内最

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